Het blad Computable brengt het bericht over een Intel vinding, optische chip, een doorbraak op dat gebied.
Intel heeft een doorbraak bereikt in het verwerken van lasers op reguliere silicium-chips. Een prototype chip bevat 8 lasers met continue straal.
Intels medewerkers van de groep fotonisch onderzoek, hebben silicium geschikt gemaakt voor optische gebruik. Dat reguliere chipmateriaal is van nature juist minder efficient voor lasertoepassingen doordat het licht verspreid. Door gebruik te maken van een bepaalde techniek, is dat nu overwonnen. Dit is een fundamentele doorbraak, aldus een onderzoeker van Intel.
Het belangrijkste is volgens de onderzoekers van Intel, dat de doorbraak nieuwe toepassingsgebieden mogelijk worden, waaronder communicatie tussen computers of zelfs tussen interne componenten.
Dat is dus nieuwe ontwikkelingen op "stapel" staan is wel juist, alleen in hoeverre zullen bedrijven en de particulier ervan profiteren?
Wel is het bericht dat ASML d.d. 23 febr. j.l. haar patent beschikbaar stelt voor Intel een diepere achtergrond gekregen voor onze redactie van XEA.nl.
Hier het bericht nog eens en trek zelf uw conclusie;

Holding NV (ASML) today (23/2/2005) announced that it has entered into a license agreement with Intel Corporation for several lithography patents that can be used to design or produce advanced masks.

"ASML is proud to have the world’s leading chip maker gain rights to some of our patent portfolio. As a company, ASML is committed to developing new innovations to help customers extend the capability of their lithography systems," said Eric Meurice, president and CEO, ASML.

The licensing agreement includes ASML’s Scattering Bar Technology, which enhances the performance and value of ASML lithography systems by increasing the manufacturing process window and, thereby, contributing to higher yields or more useable chips per wafer.

"Twenty of the world’s leading chip makers and foundries have adopted our Scattering Bar Technology," said Dinesh Bettadapur, president and CEO, ASML MaskTools. "The need for integrated solutions as offered by ASML to enhance the performance of lithography systems will continue to grow as customers demand ever-smaller feature sizes."